![鹽酸能用於幹法刻蝕嗎]( "鹽酸能用於幹法刻蝕嗎")
- 鹽酸能用於幹法刻蝕，因為在非酸性乙醯丙酮中，第三族氮化物和碳化矽很難溼法蝕刻，通常使用幹法蝕刻。幹法刻蝕的刻蝕劑是等離子體，是利用等離子體和表面薄膜反應，形成揮發性物質，或直接轟擊薄膜表面使之被腐蝕的工藝。鹽酸是氯化氫的水溶液，工業用途廣泛。鹽酸的性狀為無色透明的...
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![刻蘿蔔章犯法嗎]( "刻蘿蔔章犯法嗎")
- 不可以，私自刻章是違法的。根據治安管理處罰法第五十二條。會判處罰款，拘留的。偽造、變造或者買賣國家機關、人民團體、企業、事業單位或者其他組織的公文、證件、證明檔案、印章的；有下列行為之一的，處十日以上十五日以下拘留，可以並處一千元以下罰款；情節較輕的，處五日以上十...
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![什麼是冷凍蝕刻技術]( "什麼是冷凍蝕刻技術")
- 冷凍蝕刻技術是在冷凍斷裂技術的基礎上發展起來的更復雜的復型技術，若將冷凍斷裂的樣品的溫度稍微升高，讓樣品中的冰在真空中昇華，而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構，當大量的乾冰昇華之後，對浮雕表面進行鉑一碳復型，並在腐蝕性溶液中除去生物材料，復型經重蒸水多次清洗後，撈在載...
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![光刻機和刻蝕機有什麼區別]( "光刻機和刻蝕機有什麼區別")
- 光刻機和刻蝕機的區別是光刻機把圖案印上去，而刻蝕機是根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案或者無圖的部分，留下剩餘的部分，光刻機利用的是光學和化學反應原理和化學以及物理刻蝕方法。光刻機（MaskAligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照...
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![電路板蝕刻液中提取銅的方法]( "電路板蝕刻液中提取銅的方法")
- 電路板蝕刻液中提取銅的方法，如下所示：1、加入過量的鐵粉，與蝕刻液反應，置換出銅；2、等鐵粉與蝕刻液充分反應後過濾，得到銅和鐵的混合物；3、將銅和鐵的混合物放入過量的鹽酸中，使剩餘的鐵溶解；4、過濾即可得到銅。...
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![工業上用什麼刻蝕玻璃]( "工業上用什麼刻蝕玻璃")
- 氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液，清澈、無色、發煙的腐蝕性液體，有劇烈刺激性氣味。實驗室一般用螢石（主要成分為氟化鈣）和濃硫酸來製取，需要密封在塑料瓶中，並保存於陰涼處。因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強，且水溶液中氟化氫分子間存在氫鍵，使得氫氟酸在水中不能完全電離，理...
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![烘乾機如何防腐蝕]( "烘乾機如何防腐蝕")
- 1、靜電粉末噴塗法。把新型粉末塗料塗在烘乾機筒體，能防鏽蝕。因為一般烘乾機所用的噴漆含有大量的酯酮及烴類等物質，有毒性，揮發到空氣中會破壞環境，但經噴塗粉狀塗料後，變得持久耐用且環保。2、焊接法。使用奧氏體鎳鉻不鏽鋼進行焊接，也能達到較好的防腐蝕的效果，因為不鏽鋼本...
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![鹼性蝕刻液的ph值最佳是多少]( "鹼性蝕刻液的ph值最佳是多少")
- 蝕刻液的PH值應保持在8、0至8、8之間。溶液PH值的影響：當PH值降到8、0以下時，一方面是對金屬抗蝕層不利，另一方面，蝕刻液中的銅不能被完全絡合成銅氨絡離子，溶液要出現沉澱，並在槽底形成泥狀沉澱；這些泥狀沉澱能在加熱器上結成硬皮，可能損壞加熱器，還會堵塞泵和噴嘴，給蝕刻造成困難...
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![金屬蝕刻技術的製作工藝流程]( "金屬蝕刻技術的製作工藝流程")
- 蝕刻前處理。在金屬蝕刻之前的工序都是前處理，它是保證絲印油墨與金屬面具有良好附著力的關鍵工序。主要包括除油、水洗、浸蝕、水洗、乾燥；絲網印刷。絲網印刷要根據印刷的需要製作標準圖紋絲印網版。主要包括絲網印刷、千燥、水浸2至3分鐘；蝕刻圖案文字；蝕刻後處理。蝕刻後...
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![蝕刻機和光刻機區別]( "蝕刻機和光刻機區別")
- 蝕刻相對於光刻來說要容易一些。光刻機把圖案印上去，然後蝕刻機根據印上去的圖案蝕刻掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩餘的部分。光刻是指在塗滿光刻膠的晶圓（或者叫矽片）上蓋上事先做好的光刻板，然後用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分...
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![龍的雕刻方法]( "龍的雕刻方法")
- 1、對於原材料精挑細選2、取回來的石方簡單大體切割，把多餘的石頭鑿掉3、找出一個突破口，慢慢一點一滴的開始雕刻，達到牽一髮而動全身的效果。4、石雕龍雕刻的時候進行翻面雕刻或者配合切割。5、雕刻的過程中是不斷的有大致粗線條勾勒到細細描繪，有的地方需要用到記號筆描繪...
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![光刻機是幹什麼用的]( "光刻機是幹什麼用的")
- 光刻機是晶片製造的核心裝置之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶片的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機，同時用於生產晶片的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板。光刻機（MaskAligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻...
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![賣復刻犯法嗎]( "賣復刻犯法嗎")
- 賣復刻一般是指複製高仿的奢侈品、潮牌、藝術品等進行售賣，獲取利潤，因價格適中，外觀和真品肉眼看毫無區別，深受部分消費群體喜歡。但賣復刻是侵犯了商標權的違法行為，根據國家的法律規定，罰款數額為非法經營額3倍以下；非法經營額無法計算的，罰款數額為10萬元以下。...
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![鹼性蝕刻的原理是什麼]( "鹼性蝕刻的原理是什麼")
- 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻技術可以分為溼蝕刻和幹蝕刻兩類。最早可用來製造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用於減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝裝置發展，亦可以用於航空、機械、化學...
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![什麼叫酸性蝕刻液]( "什麼叫酸性蝕刻液")
- 酸性蝕刻液，是一種銅版畫雕刻用原料。通過侵蝕材料的特性來進行雕刻。主要成分：氯化銅、氨水、氯化氨,，補助成分為氯化鑽、氯化鈉、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。適用領域：一般適用於多層印製板的內層電路圖形的製作及純錫印製板的蝕刻。主要特點：蝕刻速率快，可達每分鐘7...
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![防止鋼鐵腐蝕方法]( "防止鋼鐵腐蝕方法")
- 防止鋼鐵腐蝕主要方法有：1、改變金屬的內部結構。例如，把鉻、鎳加入普通鋼中製成不鏽鋼。2、在金屬表面覆蓋保護層。例如，在金屬表面塗漆、電鍍或用化學方法形成緻密耐腐蝕的氧化膜等。3、電化學保護法。因為金屬單質不能得電子，只要把被保護的金屬做電化學裝置發生還原反應...
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![蝕刻液的成分]( "蝕刻液的成分")
- 蝕刻液，是一種銅版畫雕刻用原料，通過侵蝕材料的特性來進行雕刻。酸性氯化銅，工藝體系，根據新增不同的氧化劑又可細分為鹽酸氯化銅加空氣體系、鹽酸氯化銅加氯酸鈉體系、鹽酸氯化銅加雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產過程中通過補加鹽酸加空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸加雙氧水和少量...
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![私自刻章違法嗎]( "私自刻章違法嗎")
- 私自刻章屬於違法犯罪行為：根據《刑法》第二百八十條【偽造、變造、買賣國家機關公文、證件、印章罪；盜竊、搶奪、毀滅國家機關公文、證件、印章罪；偽造公司、企業、事業單位、人民團體印章罪；偽造、變造、買賣身份證件罪】偽造、變造、買賣或者盜竊、搶奪、毀滅國家機關的公...
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![玻璃如何蝕刻]( "玻璃如何蝕刻")
- 蝕刻玻璃是利用蝕刻劑(氫氟酸)來腐蝕刻制的玻璃，有文字、圖案、花紋的蝕刻玻璃作為裝飾品，美觀大方，是建築裝飾常用的一種玻璃製品。製作方法：1、將待刻的玻璃洗淨晾乾平置，於其上塗布用汽油溶化的石蠟液作為保護層，於固化後的石蠟層上雕刻出所需要的文字或圖案，雕刻時必須雕透...
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![84幹了還腐蝕嗎]( "84幹了還腐蝕嗎")
- 84幹了還會有腐蝕性，因為它的主要成分是過氧乙酸，具有酸性的，對面板是有傷害性的。即便是稀釋後也是有一定的腐蝕性的，只是相對小一點而已。建議使用84消毒液時最好戴上橡膠手套，以起到保持雙手的作用。更要避免碰到身體其它的部位。84消毒液是一種以次氯酸鈉為主要成分的含氯...
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![電解蝕刻是什麼原理]( "電解蝕刻是什麼原理")
- 電解蝕刻實際就是電解某種金屬材料，如電解銅、鐵等。電解蝕刻的具體做法是將要蝕刻的製件做陽極，用耐蝕金屬材料做輔助陰極。將陽極連線電源的正極，輔助陰極連線電源的負極。當電流通過電極和電解質溶液時，在電極的表面及電解質溶液中發生電化學反應，利用這種反應將要溶解去除...
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![鹼性蝕刻比重與新增量的關係]( "鹼性蝕刻比重與新增量的關係")
- 鹼性蝕刻比重與新增量的關係取決於所使用的鹼性溶液的種類和濃度。通常，濃度越高的鹼性溶液會產生更強的腐蝕作用，因此新增量越多，蝕刻效果就越顯著。不過，也要注意避免過度腐蝕，以免對金屬材料造成損傷。鹼性蝕刻其實是在一些物品的製作過程中由於其在電鍍之後，物體上存在著一...
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![PCB鹼性蝕刻的原理]( "PCB鹼性蝕刻的原理")
- PCB鹼性蝕刻的原理：利用幹膜、溼膜、錫層、鎳金屬層的抗蝕效能來保護有效圖形部分，通過鹼性氯化氨銅溶液蝕去無抗蝕層保護的銅面，然後再根據板的種類以不同處理方法退除抗蝕層，得到所需的圖形線路。PCB鹼性蝕刻工藝流程包括蝕刻，子液清洗。水洗，退膜，水洗，防氧化，再次水洗，烘乾，退膜...
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![蝕刻廢水的主要成分是什麼]( "蝕刻廢水的主要成分是什麼")
- 蝕刻廢水的主要成分是氯化銅、氯化亞銅、氯化鐵、氯化亞鐵和鹽酸，其中銅含量在50g/L左右。目前從蝕刻廢液中回收銅的方法很多，其中置換法具有投資少、回收率高、成本低、方法簡單、操作方便和見效快等特點。蝕刻劑有許多種類，最早是使用三氯化鐵的水溶液為蝕刻液，隨著工業發...
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![pet材料如何刻蝕]( "pet材料如何刻蝕")
- pet材料刻蝕是鐳射通過石英透鏡聚焦後，照射在置於真空室內的pet膜片上，膜片可以轉動。被鐳射照射後生成的產物由四極質譜（英國SXP300型）檢側，同時用一個基板來沉積固體產物。XeCl準分子鐳射器輸出波長為308nm，脈寬10ns，單脈衝能量40-110mJ可調。聚苯醚酷全稱聚對苯二甲酸乙二醉...
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