duv和euv技術區別

DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。從製程範圍來看，DUV基本上只能做到25nm，Intel憑藉雙工作臺的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。