光刻機是什麼
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光刻機(MaskAligner)又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動:
1、手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;
2、半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;
3、自動:指的是從基板的上載下載,曝光時長和迴圈都是通過程式控制,自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。
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